Method for generating character bas-relief model on basis of single photo
WO2022222091
Art A1
27. Oktober 2022
Anmelder: ZHEJIANG UNIVERSITY, FACEUNITY TECHNOLOGY CO., LTD 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022222091
- Aktenzeichen
- EP21937332
- Anmeldetag
- 22. April 2021
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T17/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ZHEJIANG UNIVERSITY
FACEUNITY TECHNOLOGY CO., LTD - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Zhejiang University
Chinesische Universität mit Sitz in Hangzhou, eine der führenden Forschungshochschulen Chinas mit breitem Fächerspektrum einschließlich Ingenieurwissenschaften und Materialforschung.
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