Temperature conditioning system, a lithographic apparatus and a method of temperature conditioning an object

WO2022223220 Art A1 27. Oktober 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022223220
Aktenzeichen: EP22714455
Anmeldetag: 22. März 2022
Veröffentlichung: 27. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von