Methods and applications of novel amorphous high-k metal-oxide dielectrics by super-cycle atomic layer deposition

WO2022225525 Art A1 27. Oktober 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022225525
Aktenzeichen: EP21938100
Anmeldetag: 22. April 2021
Veröffentlichung: 27. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/12H01L27/32H01L21/02H01L29/51H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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