Forming Multiple Aerial Images in A Single Lithography Exposure Pass

WO2022225647 Art A1 27. Oktober 2022

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022225647
Aktenzeichen: EP22716741
Anmeldetag: 25. März 2022
Veröffentlichung: 27. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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