Retention Drift Correction in Non-Volatile Memory Arrays

WO2022225700 Art A1 27. Oktober 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022225700
Aktenzeichen: EP22792190
Anmeldetag: 5. April 2022
Veröffentlichung: 27. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G11C13/00H03M1/12G06N3/063

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Elektronik & Schaltungstechnik Software & Datenverarbeitung

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