Phase shift mask blank, phase shift mask, light exposure method, and device manufacturing method

WO2022230694 Art A1 3. November 2022

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022230694
Aktenzeichen: EP22795607
Anmeldetag: 15. April 2022
Veröffentlichung: 3. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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