Analysis system, exposure device, device production method, display production method, and analysis method
WO2022230788
Art A1
3. November 2022
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022230788
- Aktenzeichen
- EP22795701
- Anmeldetag
- 25. April 2022
- Veröffentlichung
- 3. November 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G03F7/20H01L21/02H01L27/32H05B33/10H01L51/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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