Resist pattern formation method

WO2022230790 Art A1 3. November 2022

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022230790
Aktenzeichen: EP22795703
Anmeldetag: 25. April 2022
Veröffentlichung: 3. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/38H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von