In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

WO2022231671 Art A1 3. November 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022231671
Aktenzeichen: EP22796306
Anmeldetag: 21. Januar 2022
Veröffentlichung: 3. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06C30B25/16C30B29/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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