Positioning system, lithographic apparatus, driving force attenuation method, and device manufacturing method

WO2022233542 Art A1 10. November 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CARL ZEISS SMT GMBH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022233542
Aktenzeichen: EP22722228
Anmeldetag: 11. April 2022
Veröffentlichung: 10. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20F16F15/02G02B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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