Hole draining structure for suppression of hole accumulation

WO2022233968 Art A1 10. November 2022

Anmelder: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG 🇦🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022233968
Aktenzeichen: EP22727174
Anmeldetag: 4. Mai 2022
Veröffentlichung: 10. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/778H01L29/10H01L21/02H01L29/06H01L29/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG
Land: 🇦🇹 Österreich

🇦🇹 Infineon Technologies Austria

Österreichische Konzerngesellschaft des deutschen Halbleiterherstellers Infineon mit Sitz in Villach. Entwickelt und fertigt Halbleiterbauelemente für Automobil-, Energie- und Industrieanwendungen.

703 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von