Rf impedance matching networks for substrate processing platform

WO2022235544 Art A1 10. November 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022235544
Aktenzeichen
EP22799348
Anmeldetag
2. Mai 2022
Veröffentlichung
10. November 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/32H03H7/38
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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