Method for treating a non-metallic substrate for subsequent metallization

WO2022238010 Art A1 17. November 2022

Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022238010
Aktenzeichen: EP22733852
Anmeldetag: 10. Mai 2022
Veröffentlichung: 17. November 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/16C23C18/20C23C18/24C25D5/56C23C18/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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