Method and apparatus for characterization of a microlithography mask

WO2022248216 Art A1 1. Dezember 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022248216
Aktenzeichen: EP22728251
Anmeldetag: 10. Mai 2022
Veröffentlichung: 1. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G01N21/956G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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