Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

WO2022249863 Art A1 1. Dezember 2022

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022249863
Aktenzeichen: EP22811137
Anmeldetag: 6. Mai 2022
Veröffentlichung: 1. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/32G03F1/54G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von