V-nand stacks with dipole regions
WO2022251091
Art A1
1. Dezember 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022251091
- Aktenzeichen
- EP22811904
- Anmeldetag
- 23. Mai 2022
- Veröffentlichung
- 1. Dezember 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/1157H01L27/11582H01L27/11524H01L27/11556
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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