Inspection system for reticle particle detection using a structural illumination with aperture apodization
WO2022258370
Art A1
15. Dezember 2022
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022258370
- Aktenzeichen
- EP22732915
- Anmeldetag
- 24. Mai 2022
- Veröffentlichung
- 15. Dezember 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/84G01N21/94
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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