Metal oxide resist patterning with electrical field guided post-exposure bake

WO2022260788 Art A1 15. Dezember 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022260788
Aktenzeichen: EP22820748
Anmeldetag: 6. Mai 2022
Veröffentlichung: 15. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/033G03F7/004G03F7/38G03F7/16G03F7/30G03F7/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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