Metrology method and device

WO2022263231 Art A1 22. Dezember 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022263231
Aktenzeichen: EP22734888
Anmeldetag: 7. Juni 2022
Veröffentlichung: 22. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/95G02B21/10G03H1/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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