Stage device, charged particle beam device, and vacuum device
WO2022264287
Art A1
22. Dezember 2022
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022264287
- Aktenzeichen
- EP21945965
- Anmeldetag
- 15. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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