Resist composition, method for forming resist pattern, method for producing compounds, intermediate, and compounds

WO2022265034 Art A1 22. Dezember 2022

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022265034
Aktenzeichen: EP22825022
Anmeldetag: 15. Juni 2022
Veröffentlichung: 22. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/00C07C211/63C07C303/32C07C309/12C07C381/12C07D333/52C07D333/76G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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