Verfahren zum Ausbilden einer Noppenstruktur, Haltevorrichtung zur Elektrostatischen Halterung eines Bauteils, sowie Euv-Lithographiesystem

WO2022268565 Art A1 29. Dezember 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022268565
Aktenzeichen: EP22736178
Anmeldetag: 14. Juni 2022
Veröffentlichung: 29. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von