Radiation-sensitive resin composition, method for producing resist pattern, and compound

WO2022270134 Art A1 29. Dezember 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022270134
Aktenzeichen: EP22828053
Anmeldetag: 13. April 2022
Veröffentlichung: 29. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07D317/70G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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