Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for producing electronic device

WO2022270230 Art A1 29. Dezember 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022270230
Aktenzeichen: EP22828149
Anmeldetag: 27. Mai 2022
Veröffentlichung: 29. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/02C07C62/24C07C63/70C07C65/05C07C65/10C07C233/91C07C309/07C07C309/17C07C309/65C07C311/03C07C311/48C07C311/51C07C317/22C07C381/04C07C381/12G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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