Micro Inert Anode Array For die Level Electrodeposition Thickness Distribution Control

WO2022271568 Art A1 29. Dezember 2022

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022271568
Aktenzeichen
EP22829067
Anmeldetag
17. Juni 2022
Veröffentlichung
29. Dezember 2022
Rechtsraum
WO
IPC
C25D7/12C25D17/12C25D5/08C25D5/04C25D21/12C25D5/02C25D17/00H01L21/288H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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