Atomic layer deposition device and method

WO2023000372 Art A1 26. Januar 2023

Anmelder: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, HUST-WUXI RESEARCH INSTITUTE 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023000372
Aktenzeichen: EP21950618
Anmeldetag: 30. Juli 2021
Veröffentlichung: 26. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
HUST-WUXI RESEARCH INSTITUTE
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Huazhong University of Science and Technology

Die Huazhong University of Science and Technology ist eine chinesische Universität mit Sitz in Wuhan und breiter technischer sowie medizinischer Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Software und Medizintechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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