Gain coupling distributed feedback semiconductor laser and manufacturing method therefor
WO2023000430
Art A1
26. Januar 2023
Anmelder: Soochow University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023000430
- Aktenzeichen
- EP21950672
- Anmeldetag
- 24. August 2021
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S5/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Soochow University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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