Photoelectric sensor and formation method therefor, and electronic device

WO2023004773 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023004773
Aktenzeichen: EP21951364
Anmeldetag: 30. Juli 2021
Veröffentlichung: 2. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/146H01L31/00H01L21/00H01L31/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Semiconductor Manufacturing International (Beijing)

Semiconductor Manufacturing International (Beijing) ist die Pekinger Fertigungstochter des chinesischen Chip-Auftragsfertigers SMIC. Das Patentportfolio dreht sich fast vollständig um Halbleiter- und elektrische Bauelemente, mit kleineren Anteilen in Datenspeicherung und Optik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2016 bis 2021.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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