Physical vapor deposition method for preparing metal thin film

WO2023005677 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023005677
Aktenzeichen
EP22848282
Anmeldetag
14. Juli 2022
Veröffentlichung
2. Februar 2023
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34C23C14/06C23C14/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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