Method for generating mask pattern

WO2023006346 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023006346
Aktenzeichen: EP22747606
Anmeldetag: 4. Juli 2022
Veröffentlichung: 2. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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