Nitride semiconductor device, nitride semiconductor substrate, and method for manufacturing nitride semiconductor device
WO2023007781
Art A1
2. Februar 2023
Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023007781
- Aktenzeichen
- EP22848865
- Anmeldetag
- 15. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 2. Februar 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/45H01L21/223H01L21/225H01L21/228H01L21/265H01L21/28H01L21/336H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System
Die National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System ist ein japanischer Hochschulverbund mit medizinischem und naturwissenschaftlichem Forschungsschwerpunkt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Pharma-/Biotechnologie und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2019 bis 2025 reichen von Osteogenese-Fördermitteln bis zu Polymer-Elektrolytmembranen.
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