Composition for chemical mechanical polishing and polishing method

WO2023007938 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023007938
Aktenzeichen
EP22849017
Anmeldetag
30. Mai 2022
Veröffentlichung
2. Februar 2023
Rechtsraum
WO
IPC
C01B33/149C09G1/02C09K3/14B24B37/00H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen