Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method and electronic device manufacturing method

WO2023008127 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023008127
Aktenzeichen: EP22849192
Anmeldetag: 7. Juli 2022
Veröffentlichung: 2. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C07D327/06C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D295/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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