Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for producing electronic device, and compound

WO2023008345 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023008345
Aktenzeichen: EP22849407
Anmeldetag: 22. Juli 2022
Veröffentlichung: 2. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C43/225C07C309/10C07C311/48C07C311/53C07C381/12C07D295/26C07D327/06G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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