Composition for forming silicon-containing resist underlayer film, and silicon-containing resist underlayer film

WO2023008507 Art A1 2. Februar 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023008507
Aktenzeichen: EP22849568
Anmeldetag: 28. Juli 2022
Veröffentlichung: 2. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/22C08K3/24C08K5/05C08K5/06C08L83/06G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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