Method for inspecting resist composition, method for manufacturing resist composition, and resist composition

WO2023017711 Art A1 16. Februar 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023017711
Aktenzeichen: EP22855775
Anmeldetag: 19. Juli 2022
Veröffentlichung: 16. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039G03F7/20G03F7/26G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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