Aberration measurement system and aberration measurement method for optical imaging lens

WO2023019826 Art A1 23. Februar 2023

Anmelder: Shenzhen Institutes of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023019826
Aktenzeichen
EP21954061
Anmeldetag
15. Dezember 2021
Veröffentlichung
23. Februar 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G01M11/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Shenzhen Institutes of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Shenzhen Institutes of Advanced Technology

Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.

2.775 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen