Compensating optical system for nonuniform surfaces, a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

WO2023020791 Art A1 23. Februar 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023020791
Aktenzeichen: EP22757551
Anmeldetag: 25. Juli 2022
Veröffentlichung: 23. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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