Semiconductor film and composite substrate

WO2023021815 Art A1 23. Februar 2023

Anmelder: NGK INSULATORS, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023021815
Aktenzeichen: EP22858139
Anmeldetag: 9. Juni 2022
Veröffentlichung: 23. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/16C23C16/40C30B25/18C30B29/38H01L21/365H01L21/368

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NGK INSULATORS, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NGK Insulators

Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.

4.049 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von