Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2023022040 Art A1 23. Februar 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023022040
Aktenzeichen: EP22858361
Anmeldetag: 8. August 2022
Veröffentlichung: 23. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C07D309/30C08F22/20G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07D307/33

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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