Photosensitive surface treatment agent, laminate, transistor, pattern formation method, and transistor manufacturing method

WO2023022042 Art A1 23. Februar 2023

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023022042
Aktenzeichen: EP22858363
Anmeldetag: 8. August 2022
Veröffentlichung: 23. Februar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C323/16C07C329/06G03F7/38H01L21/288H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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