Power source assembly, and plasma immersion ion implantation device and method for using same

WO2023025179 Art A1 2. März 2023

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023025179
Aktenzeichen
EP22860525
Anmeldetag
24. August 2022
Veröffentlichung
2. März 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H05K5/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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