Composition for chemical mechanical polishing and polishing method

WO2023026780 Art A1 2. März 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023026780
Aktenzeichen
EP22861071
Anmeldetag
1. August 2022
Veröffentlichung
2. März 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00C09G1/02C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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