Polishing solution, polishing method, method for producing semiconductor component, and method for producing joined body

WO2023032028 Art A1 9. März 2023

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023032028
Aktenzeichen
EP21955922
Anmeldetag
31. August 2021
Veröffentlichung
9. März 2023
Rechtsraum
WO
IPC
C09K3/14H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RESONAC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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