Silicon wafer cleaning method and production method, method for evaluating concentration of hydrogen peroxide in cleaning fluid, and method for managing hydrogen peroxide concentration in cleaning fluid
WO2023032497
Art A1
9. März 2023
Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023032497
- Aktenzeichen
- EP22864085
- Anmeldetag
- 20. Juli 2022
- Veröffentlichung
- 9. März 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/306H01L21/304H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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