Low dielectric constant insulating coating composition, cured product of same and display device
WO2023032724
Art A1
9. März 2023
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023032724
- Aktenzeichen
- EP22864308
- Anmeldetag
- 22. August 2022
- Veröffentlichung
- 9. März 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09D183/07C09D5/25C09D183/05H01B3/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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