Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, actinic ray sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, electronic device manufacturing method, and compound

WO2023032794 Art A1 9. März 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023032794
Aktenzeichen: EP22864378
Anmeldetag: 24. August 2022
Veröffentlichung: 9. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/12G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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