Spin-on-carbon film-forming composition, method for producing spin-on-carbon film-forming composition, lithographic underlayer film, method for forming resist pattern, and method for forming circuit pattern

WO2023032998 Art A1 9. März 2023

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023032998
Aktenzeichen: EP22864580
Anmeldetag: 30. August 2022
Veröffentlichung: 9. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G73/00G03F7/26G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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