Vapor deposition mask base, method for inspecting vapor deposition mask base, method for producing vapor deposition mask, and method for producing display device

WO2023033001 Art A1 9. März 2023

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023033001
Aktenzeichen: EP22864583
Anmeldetag: 30. August 2022
Veröffentlichung: 9. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24H10K50/00H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von