Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

WO2023037731 Art A1 16. März 2023

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023037731
Aktenzeichen: EP22867055
Anmeldetag: 30. Juni 2022
Veröffentlichung: 16. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26G03F1/30G03F1/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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